Typice usus est in vestibulum vel scientificis investigationis, in clean locus est a temperata environment quod habet humilis campester of pollutants ut pulvis, aerium microbes, aerosol particulas et eget vapores. Ut exigere, clean locus habet imperium campester of contaminationem quod est certa a numero particularum per cubicus metri ad certum particulam magnitudine. Ambientem aer foras in typicam civitatem environment continet 35,000,000 particulas per cubicae metri 0,5 micron et maius diametrum, correspondentes in ISO IX clean locus quae est in infimo gradu clean locus signa.
Clean locus Overview
Clean mansiunculas sunt in paene omnis industria ubi parvum particulas potest adversatur afficiunt vestibulum processus. Et variantur in mole et multiplicitate, et sunt extensive in industries ut semiconductor vestibulum, pharmaceuticals, biotech, medicinae fabrica et vitae scientiarum, tum discrimine processu vestibulum commune in aerospace, optices, militaris et Department of Energy.
Clean locus est aliqua datum continebat spatium ubi praescripta fiunt ad reducere particulata contagione et control alia environmental parametri ut temperatus, humiditas et pressura. Et clavem component est princeps efficientiam particulatum aere (Hepa) Filter quod est ad captionem particulas quae sunt 0,3 micron et maior in magnitudine. Omnes caeli tradidit in clean locus transit per Hapen Filtra et in quibusdam casibus ubi restrictius munditia perficientur est necessarium, ultra humilis particulata aere (Ulpa) Filtra sunt.
Perses lectus operari mundum cubiculis subeunt extensive disciplina in contaminationem imperium doctrina. Et intrant et exit in clean locus per airlocks, aer imbres et / vel rooms et non oportet gerunt speciales vestibus disposito captionem contaminants, quae sunt naturaliter generatae per cutem et corpus.
Fretus in locus genus vel munus, personas gowning potest esse quod limited ut Lab tunicas et capillos, aut quod extensive ut plene involvens in multiple lased egestas lites cum sui continebat spiritus apparatus.
Clean locus indumentis adhibetur ne substantiae ex esse dimisit off velatos de corpore et contaminans elit. Clean locus indumentis se non dimittere particulas et fibris ne contagionem elit a personas. Hoc genus personas contamination potest cadit productum perficientur in semiconductor et pharmaceutical industries et potest facere crucem-infectio inter medical virgam et aegris in curis industria exempli gratia.
Clean room garments include boots, shoes, aprons, beard covers, bouffant caps, coveralls, face masks, frocks/lab coats, gowns, glove and finger cots, hairnets, hoods, sleeves and shoe covers. Et genus clean locus vestimenta usus sit reflectunt clean locus et productum specifications. Minimum gradu clean mansiunculas tantum requirere speciali calceos habens omnino lenis plantis non track in pulvis aut lutum. Tamen, calceus extrema non creare labi pericula cum salute semper praecedat. Mundus locus causa plerumque requiritur ad intrantes emundare locus. Genus 10,000 mundus mansiunculas utimur simplex smocks, caput opercula, et spolia. Nam genus X clean cella, diligenter togae gerens procedendi cum zipped operimentum omnes, tabernus, caestus et integram respirator clausura sunt requiritur.
Clean locus aer influunt principiis
Munda mansiunculas particulata-liberum aerem per usum aut HEPA aut Ulpa Filters uti laminar aut turbulenta caeli influunt principiis. Laminar, aut unidirectional, aeris influunt systems dirige percolantur aeris deorsum per constant amnis. Laminar Aeris fluxus systems typice usus est contra C% de laquearia ponere constant unidirectional influunt. Laminar fluxus criteria est plerumque in portable opus statio (LF uittas), et mandatum est in ISO-I per ISO-IV classificatis mundus mansiunculas.
Propriis clean locus consilio encompasses tota caeli distribution ratio, comprehendo praescripta adaequatum, downstream caeli redit. In verticali fluxus mansiunculas, quod est usus humilis murum aeris redit circa perimeter zone. In Horizontali fluxus applications, quod exigit usum aeris redit ad downstream terminus processus. Usus laquearia mounted caeli redit contradictoria propriis clean locus ratio consilio.
Clean locus classificationes
Clean Cella sunt classificatis per quam mundus aer est. In Foederal Latin CCIX (A ad D) de USA, numerum particulae aequalis et major quam 0,5μm mensuratur in uno cubica pes aere, et hoc comitem adhibetur ad referatur clean locus. Hoc metrica nomenclature est etiam accepit in recentissimus 209e versionem vexillum. Federal Latin 209E est usus domi. Novum vexillum est TC CCIX ex International Signa Organization. Tum signa referatur clean locus per numerum particularum in officinarum de aere. Clean volutpat Classification Signa FS 209E et ISO 14644-1 eget specifica particula comitem mensuras et calculations ad referatur munditia gradu mundus locus aut mundum. In UK, British Standard (V) CCXCV adhibetur ad referatur clean mansiunculas. Hoc vexillum est de ut superseded per BS en ISO 14644-1.
Clean cella sunt classificatis secundum numerum magnitudinem particulas licet per volumen aere. Magna numeros sicut "genus C" vel "classis M" referuntur ad Fed_std, 209E, et pro numero particulae magnitudine 0,5 μm vel maius licet per cubica pes aere. Et vexillum etiam concedit interpolation, ita fieri potest ut describere eg "genus 2000."
Signa 14644-1 Signa parva, quae specificare decimales logarithmum numerus particularum 0,1 μm aut maius licet per cubicam metri. Ita, exempli gratia, an iso genus V clean locus habet ad maxime CV = 100,000 particulas per M³.
Et 209E 209E et ISO 14644-1 assume log-log relationes inter particulam et particulam concentration. Ideo non est tale quod nulla particula concentratione. Ordinarius locus aere est circa genus 1,000,000 vel ISO IX.
ISO 14644-1 Clean locus Signa
| Genus | Maximum particulas / M3 | Fed Std 209EQUVERT | |||||
| > = 0,1 μm | > = 0.2 μm | > = 0,3 μm | > = 0,5 μm | > = I μm | > = V μm | ||
| ISO I | 10 | 2 | |||||
| ISO II | C | 24 | 10 | 4 | |||
| ISO III | 1,000 | CCXXXVII | CII | 35 | 8 | I classis I | |
| ISO IV | 10,000 | 2,370 | 1,020 | CCCLII | 83 | Genus X | |
| ISO V | 100,000 | 23.700 | 10,200 | 3,520 | DCCCXXXII | 29 | Genus C |
| ISO VI | 1,000,000 | 237,000 | 102,000 | 35,200 | 8.320 | CCXCIII | Genus 1,000 |
| ISO VII | 352,000 | 83.200 | 2,930 | Genus 10,000 | |||
| ISO VIII | 3,520,000 | 832,000 | 29,300 | Genus 100,000 | |||
| ISO IX | 35,200,000 | 8,320,000 | 293,000 | COMMINARIUM | |||
Post tempus: Mar-29-2023